掌心文学

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第70章 入股图纸玄武队（第2页）

“那是那是。”

“不过，我有要求。”

“啥要求？”

“这100亿，你需要收购周边的所有光刻机研究所。”

“那自然没问题。”

燕京当时的研究中心不多。

“厂房也要扩大。

嗯，扩大十倍左右。”

“这也没问题。”

“对了，那我们得增加掩膜版的采购。”

“不用那玩意了。”

“啥？”

“用这个。”

陆渊让边彤把公文包拿过来。

这个保镖太闲了。

陆渊直接当助手用了。

“这里有三份我的设计资料。”

“设计？陆总也是光学工程师？”

“工程师？不，我高中刚毕业。”

“啥？”

高中生？设计？

不是逗我吧。

“这份是初级设计，可以适合45nm和32nm的技术。”

“啥？”

王厂长以为自己听错了。

“浸没式光刻技术设计图纸，45纳米和32纳米的技术，怎么了？”

王厂长立马拿过设计资料。

天，还可以这样？

通过在投影物镜和晶圆之间放置水等液体介质。

利用液体的折射率使光在其中的波长变短，突破193纳米波长的限制。

“天啊，原来可以这样。”

“我一直以为193纳米是人类的极限。”

“陆总，这个设计，最小可以做到多少？”

陆渊想了想，有点忘记了。

“应该可以做到两纳米。”

“两纳米？”

普通硅原子的大小是0.2纳米。

真能做到两纳米？

“当然，靠这个肯定不行。”

“这是第二份，极紫外光刻技术与多重曝光技术。”

“使用极紫外光刻技术可以达到5纳米，加上多重曝光，可以达到2纳米。”

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